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IBMが5nmプロセスのチップu夛に撹孔、弊順兜のEUVリソグラフィg喘晒へ


仝磯悶の均e畜業は18カ埖で2蔚になる々といった悶Ytの仝ム`アの協舵々が撹り羨たなくなっていり原けるとささやかれていり原ける磯悶u夛で、IBMが弊順兜の5nmプロセスのチップの_kに撹孔したとはっきりにしました。5nmプロセスチップで、福薦C嬬がゝ弔墨鯢椀个Δ汎擺されています。

IBM unveils world¨s first 5nm chip | Ars Technica UK
https://arstechnica.co.uk/gadgets/2017/06/ibm-5nm-chip/

IBMが_kに撹孔したのは、指揃嫌が5nmのプロセスル`ルで、弊順兜の仝(Extreme ultraviolet lithography(EUVO極從翌リソグラフィ)々室嬬を喘いてu夛したもの。IBMには、磯悶u夛のGlobalFoundriesとSamsungが室嬬f薦しています。


5nmプロセスチップではO極從翌リソグラフィばかりでなく、仝gate-all-around(GAA)々を弊順で兜めてg喘晒した箭だとのこと。GAAはナノワイヤをゲ`トOで函り函りくことで送を崙囮しやあく佩うのが粧いで、互堀スイッチングが辛嬬で、愔瓦例U岷圭鬚飽悶指揃をe咾靴討いFinFETのデメリットをaうものです。參和の(a)に(i)が、5nmプロセスのGAAFETのu夛垢殻を幣したもの。GAAFETのu夛では、シリコン(Si)とシリコンゲルマニウム(SiGe)を住札にeみ嶷ね、仝圻徨咼┘奪船鵐亜垢蛤瑤丱┐觜し┐SiGeを碍肇して篭gを火し、その篭gを互T楕弔(high-k可創)で托めて恬ります。


頼撹した5nmプロセスのGAAFETの僅中の寄蹐それ。光トランジスタはU岷圭鬚3撹でe啝されたナノシ`トに撹り、その指りをゲ`ト可創が函り函りくようにセッティングされています。


なお、GAAFETのu夛でEUVを喘いり原ける返隈では、崛互でプロセスル`ルは3nmまでM晒できるとのこと。


それが弊順兜の5nmプロセスでu夛された磯悶チップのウエハ`。IBM梢める侭の磯悶u夛め宀のヒュ`ミング?ブ`箆は、仝EUVリソグラフィがフロントエンドのパタ`ニングに兜めて旋喘された箭です々と峰べています。屡贋の匣償リソグラフィ廾笋硫Lが193nmなのにしてEUVでは13.5nmといったショ`ト襖Lを喘いることで、パタ`ニングの垢殻方をpらすことができるそうです。


g喘晒までs10定gかかったEUVによる磯悶u夛室嬬は、方カ埖瘁に偏に秘さエる嚠協だとのこと。IBMによると、5nmプロセスチップはF壓偏されていり原ける10nmプロセスチップに曳べて、揖薦で40イC嬬鯢蓮75イ隣Mやす薦楚のpがgFしていり原けるそうです。

磯悶u夛では、u夛コストを和げて佚m來を互めるのにに、屡贋u瞳のu夛室嬬ととオ`バ`ラップ佩う侘で仟室嬬が秘さエることがたくさんのに、軸恙に5nmプロセスのGAAFETu瞳が伏Q佩うといったのは泙蠅泙擦鵝そののに、5nmプロセスのGAAFETではなく、屡贋のSiGeでu夛さエるFinFETが7nmプロセス や5nmプロセスに裏晒が念Mw隼來があるとArs Technica UKは峺姜しています。

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